Einleitung: Unterschied zwischen den Versionen

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Reaktive Plasmen sind ein wesentlicher Bestandteil der
 
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auf den umgebenden Oberflächen nieder. Damit lassen sich dünne
 
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Schichten mit einstellbaren Eigenschaften wie Stöchiometrie,
Brechungsindex, Härte etc. herstellen. So entstehen aus dem Quellgas
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Silan durch Plasmaprozesse amorphe Silizumschichten und aus dem
 
Silan durch Plasmaprozesse amorphe Silizumschichten und aus dem
 
Quellgas Methan amorphe Kohlenstoffschichten.
 
Quellgas Methan amorphe Kohlenstoffschichten.
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dieses Praktikumsversuchs und soll am Beispiel der
 
dieses Praktikumsversuchs und soll am Beispiel der
 
Kohlenwasserstoffschichten illustriert werden.
 
Kohlenwasserstoffschichten illustriert werden.
 
Kohlenwasserstoffschichten sind eine der wichtigsten Vertreter
 
plasma erzeugter dünner Filme. Legt man bei deren Herstellung eine
 
zusätzliche negative Vorspannung an das Substrat an, so werden die
 
positiven Ionen im Plasma zum Substrat hin beschleunigt. Durch
 
dieses sogenannte Ionenbombardement werden sehr dichte Schichten
 
gebildet. Diese zeichnen sich durch ihre außerordentliche Härte aus,
 
was dem Material die Bezeichnung '''Diamant-artiger''' Kohlenstoff
 
verliehen hat. Deponiert man diese Filme ohne zusätzliches
 
Ionenbombardement so erhält man '''polymer-artige''' Filme.
 
 
 
Amorphe Kohlenstoffschichten finden gerade wegen ihrer Härte ein
 
weites Anwendungsfeld. Ein prominentes Beispiel ist die
 
Beschichtung von Bohrwerkzeugen, wie sie in Abb. 1
 
gezeigt ist. Durch diese Hartstoffbeschichtung läßt sich die
 
Standzeit von Bohrern um den Faktor 10 erhöhen. Der Einsatz von
 
Kohlenstoffschichten als Hartstoff ist auf Systeme beschränkt, die
 
keine Carbide bilden. So ist es mit einem Kohlenstoff
 
beschichteten Bohrer nicht möglich Stahl zu bohren, da sich dort
 
FeC bildet, was zu einer Zerstörung der Beschichtung führt.
 
 
Auch die neueste Rasierklingengeneration profitiert von der Kohlenstoffbeschichtung. Die Klingen sind
 
schärfer und haben eine größere Lebensdauer.
 
 
Ein weiteres wichtiges Anwendungsfeld ist die Automobiltechnik.
 
Die Ventilsitze und Ventilschäfte von Hochleistungsmotoren sind
 
besonders starkem Verschleiß ausgesetzt. Durch eine entsprechende
 
Beschichtung läßt sich dieser Verschleiß drastisch reduzieren.
 
 
Auch in der Medizintechnik spielt Verschleiß bei Implantaten ein
 
große Rolle. Künstliche Hüftgelenke werden zum Teil mit
 
Kohlenstoff beschichtet, um ihre Standzeit zu erhöhen. Diese
 
Beschichtung hat den weiteren Vorteil, daß sie die metallischen
 
Werkstoffe vom Körper isoliert und damit ein Abstoßungsreaktion
 
unterdrücken können.
 
 
Ein weiterer Massenmarkt ist die Vergütung von magnetischen
 
Speichermedien. Damit ein Lesekopf in einer Computerfestplatte
 
beim Landen auf der Platte nicht zu deren Zerstörung führt ist die
 
Oberfläche vergütet. Hierbei ist eine besonders dünne geschlossene
 
und glatte Schicht notwendig, da die ''Flughöhe'' von Leseköpfen
 
in modernen Festplatten im Bereich von Nanometern liegt.
 
 
Trotz dieser herausragenden Bedeutung von kohlenstoffbasierten
 
Filmen für zahlreiche Anwendungen, steckt die Aufklärung der
 
Reaktionsmechanismen in diesen Plasmen erst noch in den Anfängen.
 
Aus diesem Grund erfolgt die Optimierung der Plasmaprozesse
 
bislang auf sehr empirischer Weise. Für eine zielgerichtetere
 
Optimierung zukünftiger Prozesse wäre es aber hilfreich genauer
 
Information über Reaktivteilchen und Wachstumsmechanismen zu
 
gewinnen. Ein geignetes Hilfsmittel hierzu ist die
 
Massenspektrometrie.
 
  
 
Die Massenspektrometrie ermöglicht direkt den Nachweis von
 
Die Massenspektrometrie ermöglicht direkt den Nachweis von
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beschränkt, sondern erlaubt es Neutrale und Ionen in einem weiten
 
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Massenbereich zu erfassen. Dies ist insbesondere wichtig, da man
 
Massenbereich zu erfassen. Dies ist insbesondere wichtig, da man
nicht a priori den dominanten Reaktionspartner kennt.
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Bei der Massenspektrometrie werden Atome und Moleküle ionisiert und
 
Bei der Massenspektrometrie werden Atome und Moleküle ionisiert und
 
nach ihrem Masse/Ladung-Verhältnis detektiert.
 
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Aktuelle Version vom 15. Februar 2013, 09:20 Uhr

Reaktive Plasmen sind ein wesentlicher Bestandteil der Plasmatechnik. In einem Niedertemperaturplasma wird ein molekulares Quellgas dissoziiert und ionisiert und die Reaktionsprodukte reagieren miteinander in der Gsphase oder schlagen sich auf den umgebenden Oberflächen nieder. Damit lassen sich dünne Schichten mit einstellbaren Eigenschaften wie Stöchiometrie, Brechungsindex, Härte etc. herstellen. So entstehen zum Beispiel aus dem Quellgas Silan durch Plasmaprozesse amorphe Silizumschichten und aus dem Quellgas Methan amorphe Kohlenstoffschichten.

Der wesentliche Vorteil des Einsatzes von Plasmaverfahren zur Materialsynthese ist die Tatsache, daß die Dissoziation des Quellgases schon in der Gasphase stattfindet und die zu beschichtende Oberfläche eines Werkstückes selber bei Raumtemperatur bleibt. Damit ist es möglich sogar Kunststoffe effektiv zu beschichten. Dies ist im Unterschied zur klassischen chemischen Synthese bei der die zu beschichtende Oberfläche in der Regel heiß sein muß, um über die thermische Anregung stabile Moleküle auf der Oberfläche zu dissoziieren.

Die Chemie reaktiver Plasmen ist allerdings sehr komplex, da eine Vielzahl von Reaktionen auftreten können und das System sich in der Regel nicht im Gleichgewicht befindet. Aus dem Quellgas werden eine Vielzahl unterschiedlicher Reaktivteilchen wie Radikale und Ionen gebildet, die alle zur Schichtbildung beitragen können. Die Identifizierung der wichtigsten Reaktivteilchen ist Gegenstand dieses Praktikumsversuchs und soll am Beispiel der Kohlenwasserstoffschichten illustriert werden.

Die Massenspektrometrie ermöglicht direkt den Nachweis von Neutral- oder Reaktiv-Teilchenflüssen auf Oberflächen. Im Unterschied zu anderen Nachweisverfahren wie der Laserspektroskopie ist sie nicht auf wenige Teilchenarten beschränkt, sondern erlaubt es Neutrale und Ionen in einem weiten Massenbereich zu erfassen. Dies ist insbesondere wichtig, da man nicht a priori den dominanten Reaktionspartner kennt.

Bei der Massenspektrometrie werden Atome und Moleküle ionisiert und nach ihrem Masse/Ladung-Verhältnis detektiert.